Fra et professionelt perspektiv er produktionsprocessen af en chip ekstremt kompliceret og kedelig.Men fra den komplette industrielle kæde af IC er den hovedsagelig opdelt i fire dele: IC-design → IC-fremstilling → emballage → testning.
Chipproduktionsproces:
1. Chip design
Chippen er et produkt med lille volumen, men ekstrem høj præcision.For at lave en chip er design den første del.Designet kræver hjælp fra chipdesignet af chipdesignet, der kræves til behandling ved hjælp af EDA-værktøjet og nogle IP-kerner.
Chipproduktionsproces:
1. Chip design
Chippen er et produkt med lille volumen, men ekstrem høj præcision.For at lave en chip er design den første del.Designet kræver hjælp fra chipdesignet af chipdesignet, der kræves til behandling ved hjælp af EDA-værktøjet og nogle IP-kerner.
3. Silicium -løftning
Efter at silicium er adskilt, forlades de resterende materialer.Ren silicium har efter flere trin nået kvaliteten af halvlederfremstilling.Dette er det såkaldte elektroniske silicium.
4. Siliciumstøbebarrer
Efter oprensning skal siliciumet støbes i siliciumbarrer.En enkelt krystal af et silicium af elektronisk kvalitet vejer efter at være blevet støbt i barren omkring 100 kg, og renheden af silicium når 99,9999%.
5. Filbehandling
Efter siliciumbarren er støbt, skal hele siliciumbarren skæres i stykker, som er den wafer, som vi almindeligvis kalder waferen, som er meget tynd.Efterfølgende poleres waferen, indtil den er perfekt, og overfladen er lige så glat som spejlet.
Diameteren af siliciumwafers er 8-tommer (200 mm) og 12-tommer (300 mm) i diameter.Jo større diameter, jo lavere er prisen på en enkelt chip, men jo højere bearbejdningsbesvær.
5. Filbehandling
Efter siliciumbarren er støbt, skal hele siliciumbarren skæres i stykker, som er den wafer, som vi almindeligvis kalder waferen, som er meget tynd.Efterfølgende poleres waferen, indtil den er perfekt, og overfladen er lige så glat som spejlet.
Diameteren af siliciumwafers er 8-tommer (200 mm) og 12-tommer (300 mm) i diameter.Jo større diameter, jo lavere er prisen på en enkelt chip, men jo højere bearbejdningsbesvær.
7. Formørkelse og ioninjektion
Først er det nødvendigt at korrodere siliciumoxid og siliciumnitrid, der er eksponeret uden for fotoresisten, og udfælde et lag silicium for at isolere mellem krystalrøret, og derefter bruge ætseteknologien til at eksponere det nederste silicium.Sprøjt derefter bor eller fosfor ind i siliciumstrukturen, fyld derefter kobberet for at forbinde med andre transistorer, og påfør derefter endnu et lag lim på det for at lave et strukturlag.Generelt indeholder en chip snesevis af lag, som tæt sammenflettede motorveje.
7. Formørkelse og ioninjektion
Først er det nødvendigt at korrodere siliciumoxid og siliciumnitrid, der er eksponeret uden for fotoresisten, og udfælde et lag silicium for at isolere mellem krystalrøret, og derefter bruge ætseteknologien til at eksponere det nederste silicium.Sprøjt derefter bor eller fosfor ind i siliciumstrukturen, fyld derefter kobberet for at forbinde med andre transistorer, og påfør derefter endnu et lag lim på det for at lave et strukturlag.Generelt indeholder en chip snesevis af lag, som tæt sammenflettede motorveje.
Indlægstid: Jul-08-2023